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详细介绍
| 品牌 | 霍尔德•电子 | 应用领域 | 生物产业,能源,制药/生物制药 |
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在半导体芯片制造中，0.1纳米的厚度偏差都可能导致性能失效；在生物医学领域，医用植入物涂层厚度直接影响人体相容性。当传统薄膜测量设备在精度与效率的双重挑战下渐显乏力，反射膜厚仪以突破性技术革新应运而生。这款集双光源全光谱技术、每秒百次高速采样与0.05纳米级重复精度于一体的测量设备，不仅实现20纳米超薄薄膜的精准捕捉，更以抗振动干扰的稳定性能，重新定义了工业检测的精度边界。从晶圆镀膜到新能源薄膜研发，它正成为制造领域提升良品率的核心工具。
一、产品简介
光学膜厚仪是一款精准又好用的薄膜厚度测量设备。它能测低至20纳米的超薄薄膜，测量误差小于1纳米，每秒可测100次，重复测量精度高达0.05纳米。它采用双光源组合，覆盖紫外到红外全光谱，抗干扰能力强，在振动或复杂环境下也能稳定工作。
二、应用领域
广泛应用于半导体与微电子制造、显示面板、光学器件制造、生物医学、汽车及新材料与新能源研发等领域，能满足从晶圆镀膜、显示面板薄膜到光学元件镀膜、医用植入物涂层、汽车玻璃膜层及新能源薄膜的高精度厚度检测需求，助力各行业提升产品质量与研发效率。
三、测试原理
光学膜厚仪基于白光干涉原理工作，光源发出的宽带光入射至待测薄膜表面后，经薄膜上下表面反射形成的两束反射光会因光程差产生干涉，干涉信号中包含薄膜厚度、光学常数等关键信息，设备通过探头采集干涉后的反射光谱，对特定波段范围内的光谱进行模型拟合后，即可反演解析出薄膜的厚度、光学常数及粗糙度等参数，整个系统由高强度组合光源提供宽光谱入射光，经光学系统传输至样品，反射光返回后由高速光谱模块采集信号，最终通过上位机软件完成数据处理与结果输出。
四、产品特点
1. 精准测量：支持20nm超薄膜厚检测，准确度±1nm、重复精度0.05nm，满足精密检测需求；
2. 高速采样：高采样速度100Hz，适配产线快速检测，提升测量效率；
3. 宽光谱覆盖：采用氘卤组合光源，光谱覆盖紫外至近红外，可解析单层/多层膜厚；
4. 强抗干扰性：高灵敏度元器件搭配抗干扰光学系统+多参数反演算法，复杂环境下测量稳定；
5. 灵活易适配：支持自定义膜结构测量，设备小巧易安装，配套软件及二次开发包，适配实验室/产线多场景。
五、技术参数
| 型号 | HD-FT50UV | HD-FT50NIR |
| 建议工作距离 | 非聚焦光束，安装距离5至10mm | 安装侧面出光附加镜时：34.5mm±2mm； 轴向出光时：55mm±2mm； |
| 测量角度 | ±10° | ±5° |
| 光斑类型 | 弥散光斑；在10mm安装距离时，光斑直径约为4mm； | 聚焦光斑；约200μm |
| 探头外径*长度 | Φ6.35*3200mm³ | Φ20*73mm |
| 探头重量 | 190g | 108g（探头）、49g（附加镜） |
| 光源类型 | 氘卤光源 | 卤素光源 |
| 波长范围 | 190-1100nm | 400-1100nm；1000-1700nm |
| 测厚范围 | 约20nm~50μm（折射率1.5时） | 约50nm~50μm（折射率1.5时） |
| 适配探头 | UV-VIS | VIS-NIR轴向； VIS-NIR径向；（标配其一） |
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